大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備的詳細資料：

大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備

主要特征：

1.光化學反應儀智能微電腦控制，可觀察電流和電壓實時變化

2.進口光源控制器，內置光源轉換器，功率連續(xù)可調，穩(wěn)定性高

3.光化學反應儀具有分步定時功能，操作簡便

4.反應暗箱內壁使用防輻射材料，且?guī)в杏^察窗

5.采用內照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質，經久耐用

6.配有大功率磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應溫度

8.光化學反應儀高溫度保護系統(tǒng)，自動斷電功能

9.機箱外部結構設有循環(huán)水進出口，內部設有2個插座，供燈源和攪拌反應器用。

反應暗箱：

主體箱是放置系列光化學反應儀光照裝置的地方，具有以下特征：

1、箱體內部為黑色，以降低光反射。

2、箱體后部有冷卻水進出口。

3、調節(jié)控制器上面的光光源功率旋鈕，使所使用光源功率處于zui大狀態(tài)，這樣利于燈管激亮。

4、依次打開控制器上面的風扇開關、反應器和燈開關，風扇開始工作（反應暗箱內空氣開始外排。

5、打開八位反應器（或磁力攪拌器）上面的電源開關，按需調節(jié)攪拌速度。

6、光源功率調節(jié)位于控制器中心位置，可按需調節(jié)光源功率大小。

7、控制器右上方設有微電腦定時器，可按需設置工作時間。

注：無論使用汞燈或氙燈做實驗時，必須將燈源放置在石英冷阱內使用（建議同時配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用，避免溫度過高造成儀器損壞）。

大容量光催化反應器CY-GHX-B光化學降解設備

技術參數：

型號：CY-GHX-B大容量光化學反應儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續(xù)調節(jié)大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

4.氙燈功率調節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

5.金鹵燈功率調節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調節(jié)。

（二）大容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能，使其直接轉變?yōu)榛瘜W能。當能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導體時，光激發(fā)電子躍遷到導帶，形成導帶電子(e-)，同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續(xù)性，電子和空穴的壽命較長，它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動，與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質發(fā)生氧化還原反應，或者被表面晶格缺陷俘獲?？昭ê碗娮釉诖呋瘎┝Ｗ觾炔炕虮砻嬉材苤苯訌秃希昭軌蛲皆诖呋瘎┝Ｗ颖砻娴脑驴谝换騂ZO發(fā)生作用生成經基自由基HO " , HO.是一種活性很高的粒子，能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。

由于光催化還屬于一種新興的技術，有很多因素還需要額外考慮，諸如納米光催化劑的制備技術、納米光催化劑的高活性和高壽命技術、納米光催化劑的固載化技術和納米光催化劑反應的設計技術，這些因素的實現勢必會使得凈化器價格攀升，從而影響推廣。然而該技術zui大的不足在于，從利用太陽光效率的角度看，半導體的光吸收波長范圍狹窄，主要在紫外區(qū)，利用太陽光的比例低;光生載流子的復合率很高，導致量子效率較低。

光學儀器起霧的原因及其危害

　　霧是指光學零件的拋光面上，呈現出"露水"似的物質，這些物質有的是油質點子構成的，稱為油性霧，有的是由水珠或水與玻璃起化學反應形成堆積物構成的，稱為水性霧：有的光學零件上，兩種霧都有，叫做水油混合霧，一般的都以"露水"狀或干的堆積物存在于玻璃表面上。油性霧通常分布在元形光學零件的邊緣，并向中央伸延，有的則沿擦拭痕跡分布，油性霧的形成主要是油脂污染了玻璃表面，或是由于油脂的擴散，揮發(fā)在玻璃表面凝結而造成的，比如擦拭光學零件所用的輔料含脂量高，或者所用的工具帶有油脂，用手指直接拿取和觸及光學零件等，都會引起油性霧，或者是光學儀器上所用油脂的化學穩(wěn)定性不好，產生擴散或使用方法不當涂油過多，油脂擴散到光學零件上而引起油性霧，或者是由于儀表油脂揮發(fā)性很大，會產生油質蒸氣而形成油性霧，還有的是用汽油清洗金工零件時，沒有讓汽油充分發(fā)揮干凈，就涂油裝配。還有的用汽油稀釋放塵脂涂在鏡身內，隨著時間的增長和溫度的變化，這些汽油及所含的其它成份，逐漸揮發(fā)至光學零件上而形成油性霧。

　　水性霧是由于潮濕空氣在溫度變化下而形成，主要分布在零件的全面積上，產生原因主要是潮濕氣體所致，但與儀器密封性能、光學玻璃的化學穩(wěn)定性，以及玻璃表面的清潔程度有關，在較高的相對濕度下，霉菌易生長，有些霉菌生長狀大后，便在菌絲體周圍產生分泌物，這些分泌物有的是液狀的，在液狀分泌物外圍便形成水性霧。不管何種原因形成的霧，由于霧滴以曲率半徑極小的球形分布于光學零件表面上、使入射光線產生散射現象，除了降低儀器的有效透光率外，并使成象質量差影響觀測。有的光學零件因長期起霧，被腐蝕的玻璃表面形成很多微孔，嚴重的會使玻璃零件報廢。光學儀器起霧不僅在我國東南地區(qū)嚴重存在，就是較干燥的地區(qū)，由于溫差變化，也會起霧，它比光學儀器生霉的影響范圍更大，而且更難防止。